點膠新聞
通訊光模塊電磁屏蔽FIP點膠加工解決方案
隨著5G的發(fā)展,光模塊發(fā)展也迅速,現在市面用的最多的按照通訊速率可以分為10G,25G,40G,100G,400G等等,通信設備的發(fā)展,通信設備的集成程度和組裝密度不斷提高,在提供強大的使用功能的同時,也導致了各種電磁波輻射問題,它們在工作中產生的各種電磁波需要經過處理才能通過相關的認證,所以FIP點膠加工起了非常關鍵的作用。
為了解決光模塊的電磁屏蔽的問題,從結構設計角度出發(fā),采用電磁屏蔽點膠加工的方法,切斷電磁干擾的耦合路徑,從而改善光模塊的電磁兼容性能。當電磁波到達屏蔽體表面時,由于界面阻抗不連續(xù),對入射波產生反射;未被反射掉而進入屏蔽體的能量,在向前傳播的過程中被屏蔽材料吸收衰減,尚未被完全衰減掉的電磁能量,到達屏蔽材料的另一表面時,再次因為界面阻抗不連續(xù)性發(fā)生反射,重新返回了屏蔽體內,重復這樣的反射吸收過程使得電磁波集中在屏蔽體內。電磁屏蔽主要是基于對電磁波的吸收和反射進行衰減起到屏蔽作用。
現在很多公司常用的方法是在光模塊殼上開槽,然后在上面用導電膠點膠加工,起到電磁屏蔽密封的作用,這樣基本上大部分的EMI電磁屏蔽問題都能解決。
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